KRI 离子源(KRI Ion Source ) eH 2000 系列:
KRI 离子源 eH 2000 是一款更强大的版本,带有水冷方式,他具备 eH 1000 所有的性能,而且可以产生更高的离子束功率,适合更高的工艺等级和更大的系统。水冷方式有助于降低衬底温度,可适用于塑胶衬底。
KRI 霍尔离子源 eH 2000 技术参数:
电话:+86-21-5046-3511
邮箱:ec@hakuto-vacuum.cn
地址:上海市浦东新区
新金桥路1888号36号楼7楼702室
201206
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