KRI Ion Source eHL 线性离子源
KRI Ion Source eHL 线性离子源使用 eH 200 或 eH 400 做为模组,能应用于宽范围的衬底,离子源长度高达 1 米,通过严格调整模组间的距离可以实现最佳的均匀性和离子流。由于模组是平行放置,大大简化了气体、功率和电子三者的分布。KRI eHL 线性产品使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化,一个低成本、高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层、in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统。
KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数:
电话:+86-21-5046-3511
邮箱:ec@hakuto-vacuum.cn
地址:上海市浦东新区
新金桥路1888号36号楼7楼702室
201206
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