First-Nano System GmbH 

2003年   创立于德国德累斯顿工业大学（Dresden University of Technology）

2008年 香港成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司 

2015年 上海成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司中国代表处，负责中国区业务

2018年  深圳正式成立韦氏纳米系统（深圳）有限公司，更好的为中国南方区市场

德国韦氏纳米系统成立以来，一直为客户想的更多，Thinking more ?。?！

产品范围：

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

应用领域：

离子注入/接触退火；

快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)；

可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同气体氛围环境下使用；

SiAu, SiAl, SiMo合金化；

低介电材料；

晶体化，致密化；

太阳能电池片键合；

电阻烧结

其他热工艺需求

等等...

产品特点：

- 真空快速退火炉，有RTP-100型号  低真空(10-3 hPa)

 RTP-100-HV  高真空(10-6 hPa)；

- 可应用在不同气氛环境下使用，如惰性气体、氧气、氢氮混合气等；

- 控制方式：SPS人机界面控制，7英寸触摸屏控制；

- 可存储50个程序，每个程序最多分为50步骤控制；

- 全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空度、冷却水均可自动设置；

- 优异的温控均匀性，极佳的工艺重复性；

技术规格：

- 最高温度：1200℃；

- 升温速率：150℃/秒；

- 降温速度：200℃/分钟 (1000℃-- 400℃)；

- 温控均匀性：  1.5%设定温度；

- 加热方式：红外卤素灯，顶部及底部加热，也可单独控制加热

- 灯管数量及功率：18支/20KW

- 腔体冷却：水冷方式，独立冷却源

- 衬底冷却：氮气吹扫；

- 工艺气路：MFC控制，最多4路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)；