气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层?；喑粱峭üХ从Φ姆绞剑眉尤?、等离子激励或光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。
[气相沉积系统公开招标]中国科学院半导体研究所等离子体化学气相沉积台等采购招标

中国科学院半导体研究所公开招标厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台,硅基铌酸锂薄膜电感耦合等离子刻蚀机，项目编号：OITC-G190330983

[气相沉积系统采购]等离子体增强化学气相沉积设备

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[气相沉积系统采购]高真空双室六靶磁控溅射薄膜沉积系统、光催化反应系统 、纯水超纯水一体化智能系统、电化学工作站 、量子效率测试系统交流模块

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[气相沉积系统采购]等离子体增强化学气相沉积设备

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[气相沉积系统采购]等离子体化学气相沉积系统、高压氧漂反应釜、双通道电化学工作站、全自动表界面张力测量仪、气相色谱仪、离心机、冷冻干燥机

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