俄歇电子能谱 俄歇电子能谱（简称AES），是一种表面科学和材料科学的分析技术。因此技术主要借由俄歇效应进行分析而命名之。这种效应系产生于受激发的原子的外层电子跳至低能阶所放出的能量被其他外层电子吸收而使后者逃脱离开原子，这一连串事件称为俄歇效应，而逃脱出来的电子称为俄歇电子。俄歇能谱仪包括电子光学系统、电子能量分析器、样品安放系统、离子枪、超高真空系统。 精品推荐
品牌： 日本Ulvac-Phi 型号： PHI 710 产地：日本 供应商：高德英特（北京）科技有限公司

??俄歇电子能谱仪（Auger Electron Spectrometer, AES）为微电子业常见的表面分析技术之一。原理是利用一电子束为激发源，使表面原子之内层能级的电子游离出，原电子位置则会产生空穴，导致能量不稳定，此时外层电子会填补产生之电洞，进而释放能量传递至外层能级电子，造成接受能量的电子被激发游离，游离的电子即为Auger电子。因其具有特定的动能，所以能依据动能的不同来判定材料表面的元素种类。PHI的710纳米探针俄歇扫描提供高性能的俄歇（AES）频谱分析，俄歇成像和溅射深度分析的复合材料包括：纳米材料，催化剂，金属和电子设备。维持基于PHI CMA的核心俄歇仪器性能，和响应了用户所要求以提高二次电子（SE）成像性能和高能量分辨率光谱。PHI同轴筒镜分析器（CMA）采用和电子枪同轴的几何设计，在保证了高灵敏度和宽角度地收集俄歇电子，这是纳米分析技术的基础。为了提高SE成像性能，使用闪烁计数器，提高图像质量，另配备手柄旋钮操作再一次提高了易用性。在不用修改CMA和仍维持俄歇在纳米分析的优势下，再添加了高能量分辨率光谱模式，使化学态分析的可能再大大的提高。总括来说，PHI 710以优越的俄歇纳米探针从世界领先的俄歇表面分析仪器，提供了实用和成熟的技术，以满足纳米尺度所需要的广泛实验与研发的用途。特点：l 同轴几何设计和高灵敏度的俄歇电子谱：PHI 710的场发射电子源提供了一个高亮度而直径小于6 nm的电子束以产生二次电子成像。PHI 710的同轴几何使用了“同轴式分析器（CMA）”，保持高灵敏度的同时实现了宽角度的俄歇电子收集，即使样品是表面平滑或复杂的形状或高表面粗糙度，都可以确保迅速完成所有分析程序。l 高稳定性成像平台：隔音罩与振动隔离器提供更稳定的成像和分析。隔音罩可以很好地将低频范围从30Hz到50kHz屏蔽到20dB左右的声压水平（SPL），并降低温度变化对SEM图像漂移的影响。新的振动隔离器也减少了地面振动对扫描电镜图像和小面积分析的影响。??????l 增强的SE图像用户界面：PHI 710增强SE成像性能，使用闪烁计数器在仪器上从而提高图像质量，配备手柄旋钮操作面更再次提高了使用的方便性。???l 新的高分辨率光谱模式：随着PHI的新技术，能量分辨率可调从0.5%到0.05%。多种化学物质的状态可以更容易有效的被观察出来。??l PHI SmartSoft-AES用户界面：SmartSoft AES 是在 Windows 系统上运行的PHI 710 控制软件。软件设置的AES分析操作流程显示在屏幕上 ，即便是初学者也可以轻松掌握。为提高分析效率，该软件能同时呈现实时测量位置，SEM图、俄歇分布图。应用领域：l 半导体组件：缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩散现象分析、封装问题分析等、FIB组件分析l 显示器组件：缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩散现象分析等l 磁性储存组件：定义层、表面元素、接口扩散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁头缺陷分析、残余物分析等l 玻璃及陶瓷材料：表面沉积物分析、清洁污染物分析、晶界分析等

品牌： 日本Ulvac-Phi 型号： PHI 4700 产地：日本 供应商：高德英特（北京）科技有限公司

??在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决工艺流程的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配灵敏度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，低成本、高效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。优点：l 量化薄膜的成分l 层的厚度测量l 检测相互扩散层l 微米范围多点分析基本规格：l 全自动多样品纵深分析：PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有绝佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。???????l 灵敏度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入透镜可提供最高的灵敏度和大幅缩短样品分析时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。 点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与工艺流程管理上之数据搜集可进行个别分析。??????l 10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的最小尺寸可保证小于80纳米。l 浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG- 5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会阻止高能量的中性原子，从而改善了溅射坑形状和减少对邻近地区的溅射。l 五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有马达及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，利用旋转来降低样品在一个固定位置上的择优溅射，以优化纵深分析。l PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和最理想样品的定位是由一个强大的“自动Z轴定位”功能所提供。预存多样的操作设定，可让新手能够快速，方便使用。??????可选用配备：l 热/冷样品座l 样品真空传送管（Sample Transfer vessel）应用领域：l 半导体薄膜产业l 微电子封装产业l 无机光电产业

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