临界胶束浓度(CMC)是用于测量和表征表面活性剂的重要参数，必须通过实验来确定。所有测量CMC的方法中，基于表面界面张力测量CMC的方法是常见的一种。传统上，采用DuNo y环法或Wilhelmy片法来确定表界面张力，但无论是DuNo y环法或Wilhelmy片法都不适合于测量含有表面活性剂的溶液。Wilhelmy片法遇到的问题是表面活性剂分子会吸附在Wilhelmy板金属(通常是铂金)表面上，这会导致明显的测量误差，甚至可能会影响溶液中表面活性剂的浓度。DuNo y环法原则上仅适用于单组分(即纯净)液体，当涉及表面活性剂时，通常难以彻底清洁环，此外，也不可能获得特定的动态或平衡状态相对应的表面张力值。

  与传统测量方法形成鲜明对比，德国LAUDA Scientific光学接触角测量仪采用光学悬滴分析法测量临界胶束浓度(CMC)，LSA系列光学接触角测量仪配备CMC扩展?？?，可实现CMC全自动测量。与传统的基于力学天平法测量CMC相比，它提供了完美的全新测量方法和全自动测量设备，功能强大，操作简单，可应用于科学研究、产品开发和工业生产。
  与传统测量方法相比，光学悬滴分析法在准确性、可靠性、方便性和对包含各种表面活性剂的溶液的适用性，以及自动化程度方面，都具有明显的优势:
  1) 较高的和相对精度：0.1%()或0.01%(相对)；
  2) 非常广泛的测量范围：从约10-3到几千mN/m；
  3) 完美的适用于测量表面和界面张力；
  4) 全自动、无需监测即可完成测量；
  5) 可暂停、中断，并继续测量；
  6) 终点浓度在测量完成后仍可扩展；
  7) 适用于各种表面活性剂；
  8) 一次测量即可确定静态CMC以及动态CMC。
  ( 本文内容得到授权所有者的授权许可)