KRI 考夫曼离子源 Gridded RFICP 系列
上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 RFICP 系列,无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长
RFICP  系列提供完整的套装, 套装包含离子源, 电子供应器, 中和器, 电源控制等
RFICP  系列离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性光透射,均匀性,附着力等
RFICP系列离子源应用:
离子辅助镀膜 IBAD( Ion beam assisted deposition in thermal e-beam evaporation )
离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering evaporation )
表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
离子溅镀IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)
离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)
RFICP系列离子源技术参数: