KRI 考夫曼离子源 KDC 100
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE 其他产品
电话:+86-21-5046-3511
邮箱:ec@hakuto-vacuum.cn
地址:上海市浦东新区
新金桥路1888号36号楼7楼702室
201206
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