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反应离子刻蚀 NRE-3500型RIE-PE刻蚀机
NRE-3500型RIE-PE刻蚀机概述：独立式RIE刻蚀PE刻蚀一体机，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口：一个带有2的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6Torr 或更小的极限真空。该系
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2025-01-23 |
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磁控溅射仪 NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机
NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点：不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔70，250或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源晶振夹具具有的1 ?的厚度分辨率带观察视窗的腔门易于上下载片基于LabView软件的PC计算机全自动控制带密码保护功能的多级访问控制完全的安全联锁
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2025-01-23 |
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电子束蒸发镀膜机 NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统
NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基
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2025-01-23 |
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蒸发镀膜设备 NTE-4000（A）全自动热蒸发系统
NTE-4000（A）全自动热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的全自动立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要
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2025-01-23 |
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蒸发镀膜设备 NTE-3500（A）全自动热蒸发系统
NTE-3500（A）全自动热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干净、均匀、可控及可重复的工艺过程。它们具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求。 N
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2025-01-23 |
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NPC-4000（A）全自动等离子去胶机（刻蚀机）
NPC-4000(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持
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2025-01-23 |
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NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机
NPC-3500（A）全自动plasma等离子清洗机概述：NANO-MASTER等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有*的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持
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2025-01-23 |
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SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机
SWC-3000兆声晶圆（掩模版）清洗机概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆掩模清洗(SWC)系统，用于的无损兆声清洗?？梢允视糜谝资芩鸬拇及富蛭尥及傅幕?，包含带?；つさ难谀０妗Ｎ嗽谌繁２凰鹕嘶?/span>
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2025-01-23 |
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